当前模板已根据「EDA开发工程师」岗位深度优化
选择其他岗位
开始编辑模板后,您可以进一步自定义包括:工作履历、工作内容、信息模块、颜色配置等
内置经深度优化的履历,将为你撰写个人简历带来更多灵感。
陆明哲的照片
陆明哲
在平凡的岗位上创造不平凡的价值,这是我的职业信仰。
28岁
3年工作经验
13800138000
DB@zjengine.com
求职意向
EDA开发工程师
东莞
薪资面谈
一个月内到岗
工作经历
2022.07 - 2024.06
小楷先进半导体科技有限公司
资深EDA开发工程师(数字后端方向)

负责7nm及以下先进工艺节点数字芯片物理实现工具链中布局布线(P&R)模块的核心开发与优化,主导解决多模式多电压(MMMV)设计场景下的布线拥塞与时序收敛难题,支撑客户流片项目落地。

  • 主导7nm工艺P&R工具的MMMV布线策略升级,针对AI芯片多电压域交叉布局场景,提出基于电压感知的动态布线优先级算法(融合OpenAccess数据库电压属性与Tcl脚本实时调度),将关键路径上的布线拥塞指数从1.8降至1.2(行业标准≤1.5),支撑某头部AI芯片客户完成首版流片,时序裕量提升25%。
  • 优化工具的DRC/LVS协同检查流程,通过Python重构寄生参数提取(PEX)与物理验证的接口逻辑,引入机器学习模型预测高风险DRC区域(准确率89%),将单次全芯片验证耗时从48小时压缩至22小时,客户设计迭代周期缩短30%。
  • 负责P&R工具与第三方PDK(如TSMC 7nm FinFET PDK)的适配开发,主导完成200+层金属层的规则解析与OpenAccess数据库映射,解决FinFET结构下栅极间距规则冲突问题,工具通过TSMC PDK认证,纳入公司先进工艺支持矩阵。
  • 设计基于增量式布局的快速时序收敛引擎,采用启发式搜索算法(结合PrimeTime时序报告)动态调整单元位置,在128核处理器IP项目中,时序收敛次数从平均7次降至3次,客户研发效率提升40%。
2020.03 - 2022.06
小楷集成电路设计有限公司
EDA开发工程师(数字后端方向)

参与数字芯片物理实现工具的布局布线模块开发,聚焦中等工艺节点(28nm-14nm)的常规设计场景,负责基础功能实现与性能调优,支撑消费电子类芯片客户的项目交付。

  • 独立完成14nm工艺布局工具的单元密度控制模块开发,基于K-means聚类算法优化标准单元区块划分,结合Tcl脚本实现密度热图实时可视化,将局部密度超标率从15%降至5%,满足客户对均匀布线的工艺要求。
  • 优化布线器的过孔插入策略,通过分析Cadence Innovus布线数据,识别高频过孔冗余场景,设计基于贪心算法的过孔合并机制,单模块过孔数量减少18%,降低寄生电容对信号延迟的影响(实测关键信号延迟降低12%)。
  • 搭建工具自动化测试框架,采用Python+Selenium实现回归测试用例的批量执行与结果比对,覆盖90%以上的基础功能场景,将版本发布前的测试周期从2周缩短至5个工作日,版本Bug率下降60%。
  • 支持客户28nm IoT芯片项目落地,针对其低功耗设计需求,开发电源域隔离区的布线约束自动生成工具(基于DEF文件解析),手动配置时间从8小时降至1小时,项目交付准时率从75%提升至95%。
2018.07 - 2020.02
小楷微电子技术有限公司
EDA开发实习生/初级工程师(数字后端方向)

协助完成数字芯片物理实现工具的基础模块开发与测试,参与工具文档编写与客户需求对接,熟悉EDA工具开发全流程。

  • 参与布局工具的初始版本开发,负责标准单元库信息解析模块实现(基于LEF文件读取),采用C++ STL容器存储单元属性,支持10万+单元的快速查询,模块通过单元类型、面积、pin位置等12项指标的准确性验证。
  • 优化布线器的曼哈顿路径搜索算法,通过引入A*算法替代传统广度优先搜索,在小规模测试用例中将单线段寻路时间从5ms缩短至2ms,为后续大规模布线优化奠定基础。
  • 编写工具用户手册的布局布线操作指南,整理20+个典型场景的操作步骤(如多阈值电压单元分配、时钟树区域约束设置),覆盖80%的客户高频操作需求,文档被纳入公司客户培训体系。
  • 协助定位客户反馈的布线短路问题,通过GDB调试与OpenAccess数据库日志分析,定位到金属层规则冲突的配置错误,提出规则文件校验脚本(Python实现),提前拦截90%以上的同类配置问题。
技能特长
沟通能力
执行能力
热情坦诚
文案能力
项目经验
2022.05 - 2024.02
上海芯智微电子科技有限公司
EDA工具研发资深工程师

面向7nm工艺的数字芯片时序收敛工具链优化项目

  • 7nm工艺节点下,数字芯片面临工艺变异(OCV/AOCV)复杂度高、多模式多角落(MMMC)耦合严重、传统时序工具收敛效率低(平均12小时/轮次)的痛点,项目目标是重构时序分析引擎与收敛策略,支撑10亿门以上规模7nm设计的快速时序收敛;我在项目中主导时序分析核心模块重构及MMMC收敛策略优化,对接客户(某头部晶圆厂)的先进工艺需求。
  • 项目遇到三大技术挑战:1)传统基于静态查找表的工艺变异时序计算,无法应对7nm下工艺参数的非线性波动,计算耗时占比超40%;2)MMMC场景下20+模式耦合导致收敛迭代次数激增(平均8轮);3)现有增量时序更新算法依赖全图重建,对大规模设计的更新延迟高(>2小时/修改);技术上整合了机器学习(PyTorch LSTM模型)与时序图论(改进Delta-Clock算法)。
  • 针对工艺变异,我牵头收集100+颗7nm量产芯片的实测数据,训练LSTM模型预测不同工艺角下的时序偏差,替代传统查找表,将变异计算耗时降低60%;针对MMMC,设计模式聚类算法(基于DBSCAN识别模式相似性),将20+模式聚合成5个典型组合,耦合度下降70%;针对增量更新,实现分层时序图遍历策略——仅更新受修改影响的时钟域与路径,而非全图重建。
  • 项目成果:工具的7nm工艺支持率从70%提升至95%,时序收敛时间缩短45%(至6.6小时/轮次),支持的最大设计规模从5亿门扩展到20亿门;直接支撑客户完成3款7nm AI芯片的一次性流片成功,帮助其流片周期缩短2个月、成本降低30%;我个人主导了2个核心模块的重构,申请2项发明专利(一种基于LSTM的工艺变异时序预测方法、改进的增量时序更新算法)。
2020.08 - 2022.04
北京智芯仿真技术有限公司
EDA工具研发工程师

面向AI芯片的高性能动态功耗分析工具开发

  • AI芯片(如GPU/TPU)因稀疏计算、流水线架构及多电源域设计,传统静态功耗估算工具误差超15%,无法捕捉动态开关活动与电源交互,导致流片后功耗超标;项目目标是开发支持动态场景、多电源域的功耗分析工具,精度达到95%以上;我在项目中负责功耗模型开发、仿真加速模块及前端工具接口适配,是功耗分析核心逻辑的主要实现者。
  • 项目难点:1)AI芯片的稀疏计算与流水线导致动态功耗波动大,传统周期精确仿真效率低(单轮仿真需48小时);2)多电源域(CPU核/GPU核/缓存)的静态漏电与动态开关功耗叠加,建模难度高;3)与前端设计工具(Synopsys Design Compiler)的网表格式兼容性差,导入失败率达30%。
  • 技术上采用事务级建模(TLM)抽象AI芯片的流水线与稀疏计算单元,将仿真粒度从门级提升至模块级;基于SystemC搭建多电源域分层模型,整合静态漏电(BSIM4模型)与动态开关功耗(基于翻转率的电容充放电计算);开发Huffman编码的功耗数据压缩算法,减少存储占用50%。
  • 项目成果:工具的动态功耗分析精度提升至95.2%,仿真时间缩短60%(至19小时/轮次);支持某头部AI芯片公司的GPU设计,提前发现3处电源域交叉的功耗热点(峰值功耗超标12%),避免了流片失败;工具被纳入公司AI芯片EDA工具链,我个人获公司“技术创新奖”,并主导完成与Design Compiler的接口适配,数据导入成功率提升至99%。
奖项荣誉
  • 计算机技术与软件专业技术资格(水平)考试——高级EDA工程师
  • 2023年度公司项目攻坚奖
  • XX市电子信息行业协会EDA设计优秀案例奖
自我评价
  • 深耕EDA工具链全流程开发,习惯从芯片设计场景倒推需求,用迭代思维解决布局布线、仿真等环节的效率痛点。
  • 熟悉电子/通信领域IC设计流程,能将算法优化落地为高可用工具功能,主动对齐设计与实现边界确保工程可用性。
  • 擅长拆解大规模设计数据下的工具性能瓶颈,用数据驱动方法快速定位修复隐藏缺陷,保障工具稳定性。
  • 紧跟AI辅助EDA前沿,推动智能方案落地,将学术成果转化为赋能设计效率的工具升级,具备技术落地敏锐度。
试一下,换个颜色
选择配色
使用此模板创建简历
  • 支持电脑端、微信小程序编辑简历
  • 支持一键更换模板,自由调整字距行距
  • 支持微信分享简历给好友查看
  • 支持简历封面、自荐信、自定义简历模块
  • 支持导出为PDF、图片、在线打印、云端保存
该简历模板已内置
  • 个人名称
  • 头像
  • 基本信息
  • 求职意向
  • 工作经历
  • 项目经验
  • 实习经验
  • 作品展示
  • 奖项荣誉
  • 校园经历
  • 教育背景
  • 兴趣爱好
  • 技能特长
  • 语言能力
  • 自我评价
  • 报考信息
  • 简历封面
  • 自荐信
对话框
提示
说明