为突破CMP抛光液进口垄断(国产化率<10%),联合5所高校建立产学研联盟:
攻克纳米磨料分散技术,开发pH自平衡配方(波动±0.05),构建AI寿命预测模型;
经12个月客户现场测试,产品成本仅为进口60%,助力客户停机率从15%降至3.8%; 实现国产份额从0到12%的突破,展现产业链协同创新领导力。
负责公司的生产工艺优化,针对28nm芯片金属层沉积波动超标(±8% vs ±3%标准)的行业难题,组建跨学科攻坚小组
通过开发等离子体光谱实时监控系统替代人工抽检,首创自适应PID控制算法提升响应速度5倍;
研发成果经过200小时产线验证,将厚度波动压缩至±2.1%,良率从71%提升至89%(达国际一线水平); 技术方案申请4项专利,体现复杂问题系统化解决能力,年节省晶圆成本6000万元。